氧化铈抛光皮批量供应

氧化铈抛光皮

氧化铈抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：

参数类别

具体规格

说明

核心成分

聚氨酯基材 + 高纯度氧化铈磨料（CeO₂含量＞85%）

磨粒粒径D50控制在0.8-1.4μm，避免划伤工件

硬度选择

HA70±5 / HA80±5 / HA90±5

软硬度按需匹配，硬规格适用于粗抛去痕，软规格适用于精抛提亮

尺寸与凹槽

支持定制任意尺寸及凹槽设计

完美适配各类抛光设备，精准贴合2.5D/3D曲面工件弧度

适用pH范围

6.0-8.0（中性至弱碱性）

兼容常规抛光液，不易发生化学腐蚀变质

全场景覆盖：从工业量产到精细加工

核心适用材质：光学玻璃、手机盖板玻璃、石英晶体、半导体硅片、宝石、不锈钢、精密模具等。

工业量产场景

• 3C产品2.5D/3D玻璃前后盖板抛光 • 汽车玻璃、后视镜划痕修复 • 光学仪器镜片批量加工 • 半导体硅片背损伤去除

精细加工场景

• 水晶工艺品镜面抛光 • 钟表镜片精密处理 • 激光陀螺窗口抛光 • 高功率激光器镜片加工

品质保障与服务

•每批次产品均通过激光测厚检测，厚度公差控制在±5μm内，确保尺寸精准。

•支持免费拿样测试，提供专属技术顾问，根据您的具体工况优化抛光方案。

•批量采购享受定制化包装服务，全程物流溯源，售后问题24小时响应。

欢迎来电免费索取样板或莅临指导，谢谢！

18318318306 陈志鹏

"CMPPAD"本著：“诚信、务实、专业、创新”的企业宗旨，竭诚与广大客户共发展，共创美好未来。